장비명 | 파장분산형 형광 X-선 분석장치 | 모델명 | ZSX Primus Ⅳ |
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제작국가 | 일본 | 제작사 | RIGAKU |
담당자 | 최시근 | 연락처 | 054)630-0810 |
용도 | 기업기술 및 장비지원 | 구축일자 | 2017. 11. 00 |
분류 | 화합물전처리/분석장비 |
- 시료에 X선을 조사해 2차적으로 발생하는 X선을 이용하여 원소의 정성·정량 분석(Be~U)
- 비파괴적이며 시료 전처리 시간이 매우 짧아 신속한 분석지원이 가능
- 원재료의 조성이나 금속, 화합물, 복합재료 등의 조성평가에 이용됨.
- 공정관리, 재료개발, 제조품검사 등 다양한 분야의 산업현장에서 XRF 분석이 주류를 이루고 있음.
- 세라믹, 철강 및 비철금속, 시멘트, 지질, 폴리머, 박막시료 등 각종 원료 및 제품에까지 다양한 시료 및 응용에 적용
1) X-Ray generator
- Rating : 60kV, 150mA
- Continuous maximum rating : 4kW
- Interlock
2) X-Ray Tube
- Thin beryllium end window : 30㎛
- Target : Rh
- Rating : 4kW
3) Auto sample changer
- X-ray irradiation type : Top irradiation
- Analysis element range : 4Be
4) Sample Chamber
- Sample loading : Air lock type
- Internal turret : 2-position with sample sensing function
- Sample spins : 30rpm
- Atmosphere : vacuum, air
- Primary X-ray filter : Al125, Al25, Ni40, Ni400
5) Crystal
- 5-crystal with high sensitive curved crystals
① LiF(200) : 19K ~ 92U
② GeH : 15P ~ 21Sc
③ PETH : 13Al ~ 21Sc
④ RX25 : 8O ~ 12Mg
⑤ Crystal for Carbon
6) Detector
- Scintillation counter(SC) : 22Ti ~ 92U
- Gas flow proportional counter(F-PC) : 4Be ~ 28Ni
- P-10 gas flow rate : 5ml/min
7) Vacuum system : High speed evacuation system
- Dual vacuum pump