장비소개

  • 파장분산형 형광 X-선 분석장치

    장비명 파장분산형 형광 X-선 분석장치 모델명 ZSX Primus Ⅳ
    제작국가 일본 제작사 RIGAKU
    담당자 최시근 연락처 054)630-0810
    용도 기업기술 및 장비지원 구축일자 2017. 11. 00
    분류 화합물전처리/분석장비

    적용 및 활용분야

      - 시료에 X선을 조사해 2차적으로 발생하는 X선을 이용하여 원소의 정성·정량 분석(Be~U)

      - 비파괴적이며 시료 전처리 시간이 매우 짧아 신속한 분석지원이 가능

      - 원재료의 조성이나 금속, 화합물, 복합재료 등의 조성평가에 이용됨.

      - 공정관리, 재료개발, 제조품검사 등 다양한 분야의 산업현장에서 XRF 분석이 주류를 이루고 있음.

      - 세라믹, 철강 및 비철금속, 시멘트, 지질, 폴리머, 박막시료 등 각종 원료 및 제품에까지 다양한 시료 및 응용에 적용

    주요사양

      1) X-Ray generator

        - Rating : 60kV, 150mA

        - Continuous maximum rating : 4kW

        - Interlock

       

      2) X-Ray Tube

        - Thin beryllium end window : 30㎛

        - Target : Rh

        - Rating : 4kW

       

      3) Auto sample changer

        - X-ray irradiation type : Top irradiation

        - Analysis element range : 4Be 

       

      4) Sample Chamber

        - Sample loading : Air lock type

        - Internal turret : 2-position with sample sensing function

        - Sample spins : 30rpm

        - Atmosphere : vacuum, air

        - Primary X-ray filter : Al125, Al25, Ni40, Ni400

       

      5) Crystal

        - 5-crystal with high sensitive curved crystals

         ① LiF(200) : 19K ~ 92U

         ② GeH : 15P ~ 21Sc

         ③ PETH : 13Al ~ 21Sc

         ④ RX25 : 8O ~ 12Mg

         ⑤ Crystal for Carbon

       

      6) Detector

        - Scintillation counter(SC) : 22Ti ~ 92U

        - Gas flow proportional counter(F-PC) : 4Be ~ 28Ni

        - P-10 gas flow rate : 5ml/min

       

      7) Vacuum system : High speed evacuation system

        - Dual vacuum pump